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介孔TiO2/rGO交替薄膜光催化降解土霉素

编号:YYHY008032

篇名:介孔TiO2/rGO交替薄膜光催化降解土霉素

作者:李翠霞 康伟超 任一波 王慧康 史晓

关键词: 还原氧化石墨烯 二氧化钛 介孔 交替薄膜 光催化

机构: 兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室

摘要: 采用浸渍提拉结合热处理的方法,以氧化石墨烯(GO),钛酸四丁酯(TBT)为原料,引入不同量聚乙烯吡咯烷酮(PVP)作为介孔模板剂制备TiO2/rGO交替薄膜.通过X射线衍射(XRD),扫描电子显微镜(SEM),比表面积(BET),紫外-可见漫反射(UV-VisDR)对样品进行分析表征;研究了rGO层,PVP的加入对薄膜物相结构,表面形貌,光响应范围以及太阳光照射下降解土霉素效率的影响.结果表明:引入rGO层可抑制锐钛矿相向金红石相的转变,拓宽薄膜的光响应范围;模板剂PVP的加入在薄膜中形成了大量狭缝状和针状介孔,为薄膜增加了物质传输通道和反应活性位;w(PVP)=10%时的介孔TiO2/rGO交替薄膜光催化活性最高,太阳光照射50min对土霉素的降解效率达到90.61%.

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